Darmowa dostawa z usługą Inpost oraz Orlen od 299.00 zł
InPost 13.99 zł
Poczta Polska 18.99 zł
Paczkomat 13.99 zł
DPD 25.99 zł
ORLEN Paczka 10.99 zł
Jak kupować
Pomoc
Dostawa
InPost 13.99 zł
Poczta Polska 18.99 zł
Paczkomat 13.99 zł
DPD 25.99 zł
ORLEN Paczka 10.99 zł
Darmowa dostawa z usługą Inpost oraz Orlen od 299.00 zł
Doradca ds. zakupów
Jesteśmy tu dla Ciebie!
(32) 444 93 66
Moje konto
Zostań członkiem wspólnoty miłośników książek z całego świata i zyskaj mnóstwo korzyści.
Załóż konto bezpłatnie
▸
Pusty :-(
0
Defects in Boron Ion Implanted Silicon
Język
Angielski
Angielski
Książka
Miękka
The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy...
Cały opis
Kod Libristo: 08281630
?
150 b
150 b
255.47
zł
Dostępna u dostawcy
Wysyłamy za 15-20 dni
common.delivery_to
common.delivery_to
30 dni na zwrot towaru
Mogłoby Cię także zainteresować
/
Miękka
200.98
zł
/
Miękka
164.25
zł
The Office of Scientific & Technical Information (OSTI), is a part of the U.S. Department of Energy (DOE) that houses research and development results from projects funded by the DOE. The information is generally an article, technical document, conference paper or dissertation. This is one of those publications.
Informacje o książce
Pełna nazwa
Defects in Boron Ion Implanted Silicon
Autor
W K Wu
Język
Angielski
Angielski
Oprawa
Książka - Miękka
Data wydania
2013
Liczba stron
120
EAN
9781288823055
ISBN
9781288823055
Kod Libristo
08281630
Wydawnictwo
Biblioscholar
Waga
227
Wymiary
189 x 246 x 6
Kategoria
